Micronic’s 獨特的基於 SLM技術的 Sigma7500 是一款專為先進和高產量的積體電路光罩所設計的光刻機系列。 採用248 nm波長的 KrF 離子激發雷射和類似于步進式曝光機相似原理的光學系統來獲得與e-beam 相同的解析度

Sigma7500

主要應用
90 nm 線寬關鍵層的光罩
65/45 nm 線寬次關鍵層的光罩
先進的PSM ( 相位移光罩 )的2nd 層圖形
X-design reticles

技術表現 (Extended mode)
最小主要線寬 220 nm
最小輔助線寬 130 nm
CD 精確度 5.5 nm
定位準確度 12 nm