针对低能量与高电流离子注入的下一代制程需求, iStar采用数种创新技术设计出业界最高生产效率且在2KeV以上的注入能量范围内无任何能量污染的量产型离子注入机。同时在制程控制上iStar在极低注入能量( ~200eV)的能量污染控制上立下了新的业界典范。

运用独特的反向旋转与低转速的机台特性, iStar能有效控制微粒子所造成的良率损失且不影响其在尖端制程应用的高生产效率.